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品牌之家

JSR

JSR株式会社

品牌创立时间: 1957年

注册金额:

品牌发源地: 日本

总部地址:

品牌荣誉

创立于1957年,全球领先的光刻胶生产商,光刻胶先进技术引领者,产品涵盖G/I线光刻胶/KrF光刻胶/ArF光刻胶(干法/湿法)和EUV光刻胶等。

创立于1957年,全球领先的光刻胶生产商,光刻胶先进技术引领者,产品涵盖G/I线光刻胶/KrF光刻胶/ArF光刻胶(干法/湿法)和EUV光刻胶等。

品牌介绍

JSR自开始销售光刻胶以来,以满足半导体行业的需求为宗旨,多年来不断的向全球客户提供着提供光刻材料、CMP材料和封装材料。JSR在致力于解决全球客户问题的同时,半导体材料的销售额也随之稳步增长。公司将继续以在日本开发的技术为基础,应对各种半导体工艺上的课题挑战,为半导体市场的增长做出重大贡献。

公司产品种类丰富,可满足各种工艺需求。产品包括:用于离子注入、栅极和配线工艺图案的光刻胶,用于CMP工艺的研磨液和清洗剂,以及用于封装各个工艺流程的临时键合材料、厚膜加工用光刻胶和感光性绝缘膜材料等。

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企业信息
企业名称

JSR株式会社

统一社会信用代码

法定代表人

企业邮箱

成立日期

1999-12-31

注册资本

企业类型

工商注册号

营业期限

-

核准日期

1999-12-31

登记机关

参保人数

注册地址

经营范围

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提醒: 可能因企业资料变更未及时更新造成与实际登记有差别,请以国家部门核准登记的为准。

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300000+

城市精选商家

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JSR
实力档案
企业名称
JSR株式会社
创立时间
1957年
品牌发源地
日本
品牌介绍

JSR自开始销售光刻胶以来,以满足半导体行业的需求为宗旨,多年来不断的向全球客户提供着提供光刻材料、CMP材料和封装材料。JSR在致力于解决全球客户问题的同时,半导体材料的销售额也随之稳步增长。公司将继续以在日本开发的技术为基础,应对各种半导体工艺上的课题挑战,为半导体市场的增长做出重大贡献。

公司产品种类丰富,可满足各种工艺需求。产品包括:用于离子注入、栅极和配线工艺图案的光刻胶,用于CMP工艺的研磨液和清洗剂,以及用于封装各个工艺流程的临时键合材料、厚膜加工用光刻胶和感光性绝缘膜材料等。

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企业信息
企业名称
JSR株式会社
成立日期
1999-12-31
核准日期
1999-12-31
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提醒: 可能因企业资料变更未及时更新造成与实际登记有差别,请以国家部门核准登记的为准。
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